標準型磁控濺射臺

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更新時間：2023-07-03 09:13:58瀏覽次數(shù)：282次

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北京金盛微納科技有限公司

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聯(lián)系人：林平

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產(chǎn)品簡介

本產(chǎn)品可在硅片、塑料、陶瓷、玻璃、石英、Ⅲ-Ⅴ族化合物及金屬等材料表面鍍制AI、Au、Cr、Ti、Ni、Cu、W、SiO2、各種金屬、非金屬，單層、多層膜

詳細介紹

本產(chǎn)品可在硅片、塑料、陶瓷、玻璃、石英、Ⅲ-Ⅴ族化合物及金屬等材料表面鍍制AI、Au、Cr、Ti、Ni、Cu、W、SiO2、各種金屬、非金屬，單層、多層膜。它具有均勻性好、濺射速率高、基片升溫低、靶材節(jié)省等特點。本設備主要用于微電子、光電子、通訊、微機械等領域的器件研發(fā)和制造。

詳細描述

本產(chǎn)品可在硅片、塑料、陶瓷、玻璃、石英、Ⅲ-Ⅴ族化合物及金屬等材料表面鍍制AI、Au、Cr、Ti、Ni、Cu、W、SiO₂、各種金屬、非金屬，單層、多層膜。它具有均勻性好、濺射速率高、基片升溫低、靶材節(jié)省等特點。

本設備主要用于微電子、光電子、通訊、微機械等領域的器件研發(fā)和制造。

產(chǎn)品主要性能指標